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一种直接转移石墨烯薄膜的方法 ( 化学-冶金 )

  • cn201210072029.1 发明
  • 2016-09-07
  • 化学-冶金
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本发明涉及一种直接转移石墨烯薄膜的方法。目前从金属表面转移石墨烯薄膜十分不方便。本发明首先利用化学气相沉积法在铜箔上生长出石墨烯薄膜,然后利用氧等离子清洗器将铜箔一侧的石墨烯清除干净以得到单层石墨烯薄膜与铜箔的结合体,再将转移载体平贴在石墨烯薄膜表面并滴加适量有机溶剂以增加其间相互作用,接着利用腐蚀溶液将铜箔清除以得到单层石墨烯薄膜与转移载体的结合体,其次利用去离子水多次清洗石墨烯薄膜,最后利用滤纸清除石墨烯表层的去离子水。本发明方法避免了有机胶体等转移介质对石墨烯薄膜的破坏,可以得到100微米及以上尺寸的单层石墨烯薄膜,所需设备简单,产品尺寸可控,生产安全性高,容易实现工业化应用。

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