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JFET及其制造方法以及使用该JFET的微型逆变器 ( 电学 )

  • cn201210181028.0 发明
  • 2016-05-23
  • 电学
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本发明公开了一种JFET及其制造方法以及使用该JFET的微型逆变器,其JFET包括漏极欧姆接触电极、衬底、SiC漂移层、N型SiC沟道层和N型SiC欧姆接触层以及两个栅极肖特基接触电极;其制造方法包括步骤:一、提供衬底,二、形成SiC外延层,三、形成N型SiC沟道层和SiC漂移层;四、形成N型SiC欧姆接触层,五、形成漏极和源极欧姆接触电极,六、形成两个栅极肖特基接触电极;其微型逆变器包括电容C1、C2和C3,电感L1,JFET1、JFET2和JFET3,以及碳化硅肖特基二极管D1、D2、D3和D4。本发明实现方便且成本低,提高了微型逆变器的工作频率和工作可靠性,降低了电能损耗和电价,实用性强。

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